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Influence of sputtering rate on nanopatterning of crystalline silicon surfaces by low-energy ion beam erosion

J.A. Sánchez-García, L. Vázquez, R. Gago, O. Plantevin, T.H. Metzger, J. Munoz-Garcia, M. Castro, R. Cuerno


Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Génova (Italia). 23 septiembre 2007

Fecha de publicación: septiembre 2007.



Cita:
J.A. Sánchez-García, L. Vázquez, R. Gago, O. Plantevin, T.H. Metzger, J. Munoz-Garcia, M. Castro, R. Cuerno, Influence of sputtering rate on nanopatterning of crystalline silicon surfaces by low-energy ion beam erosion, Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Italia, 23-27 Septiembre 2007.


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