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Información del artículo en conferencia

Surface nanodot patterning of amorphous silicon films by low-energy ion beam sputtering

A. Redondo-Cubero, J.A. Sánchez-García, R. Gago, L. Vázquez, J. Munoz-Garcia, M. Castro, R. Cuerno


Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Génova (Italia). 23 septiembre 2007

Fecha de publicación: septiembre 2007.



Cita:
A. Redondo-Cubero, J.A. Sánchez-García, R. Gago, L. Vázquez, J. Munoz-Garcia, M. Castro, R. Cuerno, Surface nanodot patterning of amorphous silicon films by low-energy ion beam sputtering, Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Italia, 23-27 Septiembre 2007.


    Líneas de investigación: