Ir arriba
Información del artículo

Surfaces patterned by ion sputtering

J. Munoz-Garcia, R. Cuerno, M. Castro, L. Vázquez, R. Gago, A. Redondo-Cubero

Scalable nanostructuring of surfaces using ion beam sputtering (IBS) is a versatile alternative to traditional lithography. Semiconductors, metals or compounds are amenable for IBS where different patterns can be obtained by tuning the experimental setup. This special issue addresses this problem in a wide range of topics, from a basic understanding of the physical mechanisms operating at the nanoscale, to practical applications, with a synergetic approach coming from theoretical as well as experimental groups.


Keywords:


Journal of Physics: Condensed Matter. Volumen: 30 Numero: 45 Páginas: 450301-1-450301-3

Journal Impact Factor: JCR impact factor 2.617 (2017)

DOI reference: DOI icon 10.1088/1361-648X/aae608    

Publicado en papel: Octubre 2018. Publicado on-line: Octubre 2018.


    Líneas de investigación:
  • Nanotecnología
  • Modelado numérico

pdf  Previsualizar
pdf Solicitar el artículo completo a los autores



Aviso legal  |  Política de cookies |  Política de Privacidad

© Universidad Pontificia Comillas, Escuela Técnica Superior de Ingeniería - ICAI, Instituto de Investigación Tecnológica

Calle de Santa Cruz de Marcenado, 26 - 28015 Madrid, España - Tel: (+34) 91 5422 800