Continuum models of nanopattern formation by ion-beam sputtering: recent developments

R. Cuerno, L. Vázquez, J. Munoz-Garcia, J.A. Sánchez-García, M. Castro, R. Gago

Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante (Italia). 23-27 Septiembre 2007

Fecha de publicación: septiembre 2007.

Cita:
Cuerno, R., Vázquez, L., Munoz-Garcia, J., Sánchez-García, J.A., Castro, M., Gago, R., Continuum models of nanopattern formation by ion-beam sputtering: recent developments, Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante (Italia). 23-27 Septiembre 2007.