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Información del artículo en conferencia

Continuum models of nanopattern formation by ion-beam sputtering: recent developments

R. Cuerno, L. Vázquez, J. Munoz-Garcia, J.A. Sánchez-García, M. Castro, R. Gago


Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Génova (Italia). 23 septiembre 2007

Fecha de publicación: septiembre 2007.



Cita:
R. Cuerno, L. Vázquez, J. Munoz-Garcia, J.A. Sánchez-García, M. Castro, R. Gago, Continuum models of nanopattern formation by ion-beam sputtering: recent developments, Nanopatterning via ions, photon beam and epitaxy, Sestri Levante, Italia, 23-27 Septiembre 2007.


    Líneas de investigación: