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Información del artículo en conferencia

Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon

A. Moreno Barrado, M. Castro

International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague (Dinamarca). 26 mayo 2013


Fecha de publicación: mayo 2013.



Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon, International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague (Dinamarca). 26-30 Mayo 2013


    Líneas de investigación:
  • *Sistemas Mecánicos: Mecánica Estructural, Elementos de Máquinas, Prototipado Rápido, Metrología Dimensional

IIT-13-051A