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Información del artículo en conferencia

Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon

A. Moreno Barrado, M. Castro


International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague (Dinamarca). 26 mayo 2013

Fecha de publicación: mayo 2013.



Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon, International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague, Dinamarca, 26-30 Mayo 2013.


    Líneas de investigación:
  • *Sistemas Mecánicos: Mecánica Estructural, Elementos de Máquinas, Prototipado Rápido, Metrología Dimensional

IIT-13-051A