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Informacion del artículo en conferencia

Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach

A. Moreno Barrado, M. Castro


19th International Conference on Ion Implantation Technology, Valladolid (España). 25-29 Junio 2012

Fecha de publicación: junio 2012.



Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach, 19th International Conference on Ion Implantation Technology. ISBN: 978-0-7354-1108-1, Valladolid, España, 25-29 Junio 2012


    Líneas de investigación:
  • *Sistemas Mecánicos: Mecánica Estructural, Elementos de Máquinas, Prototipado Rápido, Metrología Dimensional

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