19th International Conference on Ion Implantation Technology, Valladolid (España). 25-29 Junio 2012
Fecha de publicación: junio 2012.
Cita:
Moreno Barrado, A., Castro, M., Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach, 19th International Conference on Ion Implantation Technology, Valladolid (España). 25-29 Junio 2012.
